В докладе рассматриваются задачи о течениях многокомпонентных газовых смесей с физико-химическими превращениями применительно к математическому моделированию обработки элементов микроэлектроники. Представлена численная модель плазмохимического реактора травления, соответствующая современным направлениям в моделировании технологий производства микроэлектронных схем. На ее основе выполнена оптимизация травления кремния в плазме по составу бинарной смеси. Обсуждаются перспективы создания виртуального плазмохимического реактора для системы автоматического регулирования процесса.